2026年9月2日，在台灣台北南港展覽館舉行的2026年台灣國際半導體展（SEMICON Taiwan 2026）上，一位參觀者正在展位上查看高密度半導體測試負載板。示意圖（圖片來源：Cheng Chia Huang／Getty Images）
【看中國2026年9月8日訊】（看中國記者李淨瑤綜合報導）台灣在半導體的領先技術與人才受到中國企業的覬覦，許多中國企業透過外資公司、空殼公司等方式掩飾中資背景，進入到台灣的半導體產業。外媒指出，台灣當局這6年來共調查166起中國非法持有的案件，另有67起涉及科技業營業秘密案件。
中國以「間諜」模式滲透台灣半導體
自2015年起，中國開始致力於發展並推動半導體與先進芯片的自給自足。其在這方面的步伐與進程，隨著美國透過貿易禁令和出口管制，阻止西方技術流入北京而越來越快速。中國企業覬覦台灣的半導體技術與人才，為了吸引人才，他們可以提供比平均高出五到十倍的優渥薪資。
國際非營利媒體《世界其他地區》（Rest of World）從2020年起對中國科技產業的調查開始逐步擴大，調查局曾動員約2000名調查人員，重點鎖定半導體、芯片設計、AI伺服器及先進運算等敏感領域，對中國資金與科技產業之間的關聯進行調查。結果發現了一套屬於中國的「間諜」模式。
《世界其他地區》於9月的一則報導揭露了台灣法務部調查局歷時6年，針對中國企業在台設立「秘密芯片實驗室」、非法隱匿身分營運以及惡意挖角半導體人才進行的大規模查緝行動。
該報導透過台灣司法資料庫查閱其中36件案件的公開法庭記錄。這36件案件均以違反《兩岸關係法》未經批准經營科技企業而定罪。其中33起案件涉及從事研發或芯片設計的公司。由於判決下達前案件記錄尚未公開，因此該數字並不代表所有被起訴的案件。
台灣檢調6年查出166起案件
據瞭解，中國企業若要在台灣經營業務，就必須依照《兩岸人民關係條例》及相關投資規範，取得政府的批准。不過台灣調查機關卻發現，許多中國企業利用法律與投資漏洞，透過第三地公司、外國人名義或空殼公司掩飾中資背景，進入台灣市場。
根據台灣調查局的資料，過去6年共有166起涉嫌中國企業非法營運及挖角人才的案件完成調查，目前仍有相關案件持續偵辦。其中，至少36起案件已有公開判決，全部涉及違反《兩岸人民關係條例》，也就是未經政府核准在台灣經營科技相關業務。
36起案件中，有33起涉及企業研發或芯片設計。除了非法經營案件，調查局也調查了67起與中國有關的科技業營業秘密案件。若案件涉及竊取或未經授權移轉「關鍵技術」，還可能進一步依《國家安全法》追究刑責，最高可處12年有期徒刑，或最高新台幣1億元的罰鍰。
中國企業冒充外資公司來台挖角
其中中國企業最常見的手法是把他們的企業包裝成外國公司。據《世界其他地區》報導，一名來自新竹的芯片工程師在2020年被美國公司Blue Ocean Smart System錄取，工作數月後發現自己從未和美國同事接觸，反而經常和中國南京的團隊開會，並分享程式碼及芯片設計。2021年8月，台灣當局突襲Blue Ocean Smart System，指控公司以台灣登記企業掩飾中資背景，最後該公司在台灣的業務被關掉。
另外一起案件發生在2021年的新竹一個高科技園區，檢調部門調查了一家與中國網路設備企業共進電子有關的台灣公司。據指控，這家公司最初嘗試直接在台灣登記，但因受到當局的拒絕，轉而採用外國投資架構來設立公司，並由一名日本籍人士擔任登記代表人。這類公司看似擁有外國背景，但實際的營運資金仍然來自中國。
小米、一加、中芯國際也曾被查
小米也曾被台灣檢調調查。檢方指控，小米雖獲准在台灣銷售產品，但旗下人士涉嫌另外成立晶片開發業務，並招募台灣工程師從事研發。
中國手機品牌一加（OnePlus）也涉嫌在台灣進行未經核准的研發活動，被台灣檢調指控。其創辦人劉作虎涉嫌在台灣經營未經核准的軟體研發機構，並招募超過70名工程師，案件中也有2名台灣籍人士遭檢方指控，涉嫌代表劉作虎經營相關業務。
此外，中國的一家晶圓代工大廠中芯國際（SMIC）也被台灣調查局點名。調查局指出，中芯國際被指控利用一家以薩摩亞公司名義登記的企業在台灣招募人才。調查表明，中國企業或許藉由外國法人身份掩飾其實際的中國背景，以便接觸台灣的半導體人才。
台灣防止技術斷層與國安問題
據《日經亞洲》報導，由於台灣在全球的半導體市場佔有超過60%的份額，尤其是在先進製程晶片方面更是高達90%。為了防止技術斷層和國家安全問題，台灣在2022年修訂了《國家安全法》，將「國家核心關鍵技術」（例如14奈米以下的先進芯片技術）納入保護範圍。未經授權洩露這些核心商業機密者將面臨嚴厲的刑事懲罰。
其實不只是台灣，歐洲的比利時、荷蘭等國，近期也針對中國透過投資後在當地設立「複製到中國」（Copy-to-China）公司的半導體間諜手法展開搜捕與防範，顯示全球對中國芯片技術滲透的警戒已達到前所未有的高度。
